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原子光刻


□ 巨 新 WANG Zhong-Ping

  摘要 与光子和电子不同,原子的激发亚稳态具有方便操作的内能态结构,这使利用内能态的光学淬灭原理实现光刻技术成为现实,基于原子光学的中性原子束光刻技术是下一代光刻技术(the next generation lithography,NGL)的一种,它可分两种途径实现:激光驻波原子直沉积技术和亚稳态中性原子光刻技术,前者可以实现图案的纳米尺度特征、大面积平行沉积和高分辨率;后者结合有效的抗蚀剂,同样可以实现纳米图形制造,在基板上获得的尖锐边缘分辨率目前可达40nm,两种途径的原理相差甚远,但最终获得的结果相似。
  关键词 原子光刻,原子光学,微纳米制造


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摘自:物理 2009年第01期  
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