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□ 罗 岚 徐 政 刘庆峰 刘 茜

  摘要:顺序沉积薄膜制备技术包括前驱薄膜制备和后期薄膜热处理技术,特别适合复杂组分的薄膜制备.采用IM100离子束材料芯片沉积仪在MsO(100)基片上顺序沉积Gd2O3和Al单层薄膜,经后续低温扩散和高温晶化两步热处理得到GdAlO3单一晶相薄膜.以X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等手段,分析所得CdAlO3薄膜的晶体结构和微观形貌,考察热处理过程对GdAlO3薄膜生长过程及微观结构的影响.实验结果表明顺序沉积薄膜制备技术具有化学计量比控制精确的优点,两步热处理可以得到结晶状况良好的单相结晶薄膜.关键词:离子束溅射;顺序沉积;两步热处理;CdAlO3单一晶相薄膜
  中图分类号:TBB43
  文献标识码:A
  文章编号:0253—374X(2005)03—0358—03

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